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化學(xué)性質(zhì)

中文別名:一氧化硅
英文名稱:silicon monoxide
英文別名:silicon monooxide coating quality balzers; Siliconmonoxidepowder; SiliconIIoxidegranularmeshbrownpowder;
分子量:44.08490
精確質(zhì)量:43.97180
編號系統(tǒng)
CAS號:10097-28-6
MDL號:MFCD00151536
EINECS號:233-232-8
物性數(shù)據(jù)
1、性狀:白色立方體或黃土色無定形粉末,在空氣中熱處理時,黃土色粉末變成白色粉末。
2、密度(g/mL,25℃):2.24
3、相對蒸汽密度(g/mL,空氣=1):2.18~2.2
4、熔點(oC):1702
5、沸點(oC,常壓):>1700
6、沸點(oC,5.2kPa):未確定
7、折射率:1.980
8、閃點(oC):1880
9、比旋光度(o):未確定
10、自燃點或引燃溫度(oC):未確定
11、蒸氣壓(kPa,20oC):未確定
12、飽和蒸氣壓(kPa,60oC):未確定
13、燃燒熱(KJ/mol):未確定
14、臨界溫度(oC):未確定
15、臨界壓力(KPa):未確定
16、油水(辛醇/水)分配系數(shù)的對數(shù)值:未確定
17、爆炸上限(%,V/V):未確定
18、爆炸下限(%,V/V):未確定
19、溶解性:不溶于水,溶于稀氫氟酸與硝酸的混酸中。
計算化學(xué)數(shù)據(jù)
1、疏水參數(shù)計算參考值(XlogP):無
2、氫鍵供體數(shù)量:0
3、氫鍵受體數(shù)量:1
4、可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:0
5、互變異構(gòu)體數(shù)量:無
6、拓?fù)浞肿訕O性表面積:1
7、重原子數(shù)量:2
8、表面電荷:0
9、復(fù)雜度:10
10、同位素原子數(shù)量:0
11、確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
12、不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
13、確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
14、不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
15、共價鍵單元數(shù)量:1
生態(tài)學(xué)數(shù)據(jù)
一氧化硅通常對水體是稍微有害的,不要將未稀釋或大量產(chǎn)品接觸地下水,水道或污水系統(tǒng),未經(jīng)政府許可勿將材料排入周圍環(huán)境。
性質(zhì)與穩(wěn)定性
常溫常壓下穩(wěn)定
避免光,明火,高溫.不溶于水,溶于稀氫氟酸與硝酸的混酸中。熱和電的良好絕緣體。在空氣中氧化形成二氧化硅膜而鈍化。在氧氣中燃燒,和水反應(yīng)生成氫氣。在溫?zé)岬膲A水溶液里生成氫氣,形成硅酸鹽而溶解。

安全信息

安全信息
安全說明: S26:萬一接觸眼睛,立即使用大量清水沖洗并送醫(yī)診治。
S36:穿戴合適的防護服裝。
危險品標(biāo)志: Xi:刺激性物質(zhì)。
危險類別碼: R36/37/38:對眼睛、呼吸道和皮膚有刺激作用。
安全性 通常對水體是稍微有害的,不要將未稀釋或大量產(chǎn)品接觸地下水,水道或污水系統(tǒng),未經(jīng)政府許可勿將材料排入周圍環(huán)境。
常溫常壓下穩(wěn)定避免光,明火,高溫。
常溫密閉避光,通風(fēng)干燥處。
急 救
吸 入:如果吸入,請將患者移到新鮮空氣處。
皮膚接觸:脫去污染的衣著,用肥皂水和清水徹底沖洗皮膚。如有不適感,就醫(yī)。
眼晴接觸:分開眼瞼,用流動清水或生理鹽水沖洗。立即就醫(yī)。
食 入:漱口,禁止催吐。立即就醫(yī)。
對保護施救者的忠告:將患者轉(zhuǎn)移到安全的場所。咨詢醫(yī)生。出示此化學(xué)品安全技術(shù)說明書給到現(xiàn)場的醫(yī)生看。

合成方法

1、一氧化硅可由二氧化硅在高溫下與單質(zhì)硅作用后迅速冷卻制得:SiO2 + Si → 2SiO。

2、將SiO2含量為99.5%的二氧化硅粉末和煤瀝青粉末混合,C/SiO2混合摩爾比為2.0,混合物經(jīng)減壓加熱處理,其溫度為1600℃,壓力為1.013 kPa,經(jīng)還原反應(yīng)生成SiO蒸氣,通入氬氣,將SiO蒸氣凝結(jié)輸送,制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。SiO2+C→SiO+CO。

 

上下游產(chǎn)品信息

表征圖譜

相關(guān)文獻

用途

一氧化硅微粉末因極富有活性,可作為精細(xì)陶瓷合成原料,如氮化硅、碳化硅精細(xì)陶瓷粉末原料。用作光學(xué)玻璃和半導(dǎo)體材料的制備。

在真空中將其蒸發(fā),涂在光學(xué)儀器用的金屬反射鏡面上,作為保護膜。半導(dǎo)體材料的制備。