西亞試劑優(yōu)勢供應上萬種化學試劑產品,歡迎各位新老客戶咨詢、選購!

登錄

¥0.00

聯(lián)系方式:400-990-3999 / 郵箱:sales@xiyashiji.com

西亞試劑 —— 品質可靠,值得信賴

化學性質

中文名稱:氧化銦

中文別名:氧化銦(III);納米氧化銦;三氧化二銦;氧化銦/納米氧化銦;

英文名稱:Indium Oxide

英文別名:Diindium trioxide,Indium sesquioxide;Indium(III) oxide;Diindium trioxide Indium sesquioxide;

Diindium trioxide,Indium sesquioxide,Indium(III) oxide;Indium oxide;

CAS號:1312-43-2

分子式:In2O3

分子量:277.63400

精確質量:277.79200

PSA:43.37000

物性數(shù)據(jù)

蒸氣壓(mmHg,25oC):<0.01

溶解性:不溶于水,溶于熱的無機酸

雜質要求

In2O3含量:99.99%,(其它雜質以%計)

氯化物<=0.001

硫酸鹽<= 0.002

氮化合物<=0.003

Cu <=0.0002

Pb <=0.0004

Cd <=0.00079

Ti <=0.0003

Sn <=0.00063

Al<=0.0002

Fe <=0.0015

Ag<=0.00005

其它再議

 計算化學數(shù)據(jù)
1.疏水參數(shù)計算參考值(XlogP):無
2.氫鍵供體數(shù)量:0
3.氫鍵受體數(shù)量:3
4.可旋轉化學鍵數(shù)量:0
5.互變異構體數(shù)量:無
6.拓撲分子極性表面積3
7.重原子數(shù)量:5
8.表面電荷:0
9.復雜度:0
10.同位素原子數(shù)量:0
11.確定原子立構中心數(shù)量:0
12.不確定原子立構中心數(shù)量:0
13.確定化學鍵立構中心數(shù)量:0
14.不確定化學鍵立構中心數(shù)量:0
15.共價鍵單元數(shù)量:5
分子結構數(shù)據(jù)
1、單一同位素質量:277.7925 Da
2、標稱質量:278 Da
3、平均質量:277.6342 Da
生態(tài)學數(shù)據(jù)
通常來說對水是無害的,若無政府許可,勿將材料排入周圍環(huán)境。
性質與穩(wěn)定性
在氫氣或其他還原劑存在下,加熱至400~500℃可還原成金屬銦或低價銦的氧化物。
在高溫下分解為低級氧化物。另外,在高溫下可與金屬銦發(fā)生反應,低溫灼燒生成的In2O3雖易溶于酸,但經(jīng)過高溫處理得越完全就越難溶,吸濕性也消失了。三氧化二銦在赤熱狀態(tài)下用氫氣還原時,則生成金屬銦。
毒理資料
RTECS號:NL1770000
急性毒性:大鼠口經(jīng)LD:>10gm/kg;小鼠引入腹膜LDLo:5gm/kg;小鼠口經(jīng)LDLo:10gm/kg
包裝
本產品可按用戶要求,裝入塑料桶,熱塑套管封口。
包裝(Package): 20公斤/袋
貯存方法
保持貯藏器密封、儲存在陰涼、干燥的地方,確保工作間有良好的通風或排氣裝置。

安全信息

危險品標志Xi

危險類別碼36/37/38

安全說明26-36

危險品運輸編號UN1993

WGKGermany3

RTECS號NL1770000

TSCAYes

海關編碼28259085

HazardClass3

PackingGroupII

合成方法

1.將高純金屬銦在空氣中燃燒或將碳酸銦煅燒生成In2O、InO、In2O3,精細控制還原條件可制得高純In2O3。也可用噴霧燃燒工藝制得平均粒徑為20nm的三氧化二銦陶瓷粉。

2.將氫氧化銦灼燒制備三氧化二銦時,溫度過高的話,In2O3有熱分解的可能性,若溫度過低則難以完全脫水,而且生成的氧化物具有吸濕性,因此,加熱溫度和時間是重要的因素。另外,因為In2O3容易被還原,所以必須經(jīng)常保持在氧化氣氛中。

3.將氫氧化銦在空氣中,于850℃灼燒至恒重,生成In2O3,再在空氣中于1000℃加熱30min。其他硝酸銦、碳酸銦、硫酸銦在空氣中灼燒也可以制得三氧化二銦。

 

上下游產品信息

表征圖譜

相關文獻

用途

1.用作光譜純試劑和電子元件的材料等
2.用于金屬反射鏡面的保護涂層、光電顯示半導體薄膜,也用于制造銦鹽、玻璃。
電阻式觸摸屏中經(jīng)常使用的原材料,主要用于熒光屏、玻璃、陶瓷、化學試劑等。另外,廣泛應用于有色玻璃、陶瓷、堿錳電池代汞緩蝕劉、化學試劑等傳統(tǒng)領域。近年來大量應用于光電行業(yè)等高新技術領域和軍事領域,特別適用于加工為銦錫氧化物(ITO)靶材,制造透明電極和透明熱反射體材料,用于生產平面液晶顯示器和除霧冰器。