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| 訂貨編號 | 產品名稱 | 規(guī)格 | 包裝 | 原價 | 現(xiàn)價 | 數(shù)量 | 操作 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| B49821-1g | 2-(BOC-氨基)-5-氰基吡啶 | ≥96.0% | 1g | 4152.00 | 4152.00 |
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化學性質
危險屬性
質量標準
采購詢價
問答
1. 基本結構與官能團
- BOC-氨基（叔丁氧羰基氨基）：這是一個保護基團，常用于在合成過程中保護氨基，以防止其在后續(xù)反應中被氧化或發(fā)生其他不希望的反應。BOC基團在酸性條件下可以去除，恢復為自由的氨基。
- 氰基（-CN）：氰基是一個強吸電子基團，能夠顯著影響整個分子的電子云分布和化學反應性。
2. 溶解性
- 由于其含有極性的BOC-氨基和氰基，該化合物可能具有一定的極性，因此可能在極性溶劑（如DMF、DMSO、乙腈等）中溶解度較好，而在非極性溶劑（如石油醚、正己烷等）中溶解度較差。
3. 反應性
- 親核加成反應：氰基是一個強的親電中心，容易受到親核試劑的攻擊。例如，它可能與格氏試劑、氫化鋁鋰等強親核劑發(fā)生加成反應。
- 還原反應：氰基可以被還原為氨基或其他官能團。使用適當?shù)倪€原劑（如LiAlH4、NaBH4等），可以將氰基轉化為相應的醛或胺。
- 脫保護反應：BOC-氨基在酸性條件下（如HCl、TFA等）可以去除BOC基團，恢復為自由的氨基。這一步驟在多步合成中尤為常見。
4. 穩(wěn)定性
- 在干燥、避光、低溫的條件下，該化合物可能相對穩(wěn)定。然而，由于氰基的存在，它可能對熱和某些化學品敏感。因此，在處理和儲存時需要特別注意。
5. 毒性與安全性
- 氰基化合物通常具有毒性，因此在操作過程中需要采取適當?shù)陌踩胧?，如佩戴防護手套、眼鏡和口罩等。
- 避免吸入粉塵或蒸汽，并在通風良好的實驗室環(huán)境中進行操作。
1. GHS分類：
- 目前沒有直接針對2-(BOC-氨基)-5-氰基吡啶的GHS分類詳細信息。然而，根據(jù)其化學結構，可以推測它可能具有某些特定的危險性，如易燃性、刺激性或有害性。具體的GHS分類需要參考該化合物的詳細安全數(shù)據(jù)表（SDS）。
2. 安全術語：
- 由于缺乏具體信息，無法給出確切的安全術語。但一般來說，對于含有氰基和氨基的化合物，常見的安全術語可能包括“避免吸入”、“避免接觸皮膚和眼睛”以及“使用適當?shù)膫€人防護裝備”。
3. 風險術語：
- 同樣，沒有直接的風險術語可供參考。但根據(jù)類似化合物的經驗，可能的風險包括對呼吸系統(tǒng)的刺激、對皮膚和眼睛的腐蝕性以及對環(huán)境的潛在危害。
4. 急救措施：
- 如果吸入，請將患者移到新鮮空氣處。
- 如果皮膚接觸，應脫去污染的衣著，用肥皂水和清水徹底沖洗皮膚。
- 如有眼睛接觸，應用流動清水或生理鹽水沖洗。
- 如感覺不適，應呼叫中毒控制中心或就醫(yī)。
5. 消防措施：
- 具體的消防措施取決于化合物的物理和化學性質。一般來說，應使用適當?shù)臏缁饎?，如干粉、泡沫或二氧化碳滅火器。在滅火過程中，應佩戴自給式呼吸器并穿上全身防護服。
6. 泄漏應急處理：
- 個人應避免吸入蒸氣、煙霧或氣體。
- 確保充分的通風，并移去所有點火源。
- 采取措施防止進入排水溝、下水道、地下室或密閉區(qū)域。
7. 廢棄處置：
- 廢棄物的性質可能包括化學品、溶液和/或容器。
- 請咨詢當?shù)毓芾聿块T以確定適當?shù)膹U棄處理方法。
8. 安全數(shù)據(jù)表（SDS）：
- 安全數(shù)據(jù)表是獲取特定化學物質詳細安全信息的最可靠來源。它包含了有關物質的理化特性、毒性、健康危害、急救措施、消防措施、泄漏應急處理以及安全儲存、操作和處置等方面的信息。
- 對于2-(BOC-氨基)-5-氰基吡啶，建議查閱其最新的SDS以獲取準確和詳細的安全信息。
1. 純度：這是衡量化合物純凈程度的重要指標，通常通過氣相色譜（GC）、液相色譜（HPLC）等方法進行測定。高純度的2-(Boc-氨基)-5-氰基吡啶對于確保后續(xù)化學反應的準確性和產物的質量至關重要。
2. 外觀：化合物的外觀也是質量評估的一部分，通常應為白色至類白色結晶性粉末，無可見雜質。
3. 熔點：熔點是固體化合物的一個重要物理性質，可以通過熔點測定儀進行測量。對于特定的化合物，其熔點應在一定范圍內，且不應有顯著的偏差。
4. 水分含量：水分含量對化合物的穩(wěn)定性和反應活性有影響，通常需要控制在一定范圍內?？枴べM休滴定法是常用的水分測定方法。
5. 重金屬含量：某些重金屬元素可能對化合物的應用產生不良影響，因此需要控制其含量在安全范圍內。這通常通過原子吸收光譜法（AAS）或電感耦合等離子體發(fā)射光譜法（ICP-OES）等方法進行測定。
6. 溶劑殘留量：在化合物的合成和純化過程中，可能會使用各種溶劑。溶劑殘留量過高可能會影響化合物的純度和應用效果，因此需要進行控制。
7. 其他雜質：除了上述指標外，還可能需要關注其他特定雜質的含量，如未反應的原料、副產物、降解產物等。這些雜質的含量通常也需要通過適當?shù)姆治龇椒ㄟM行測定。
